膜厚儀通常采用光干涉原理來測量薄膜厚度
膜厚儀是薄膜厚度測量儀的簡稱，是一種用來在線并定量的測量透光或者半透光的各種薄膜厚度的儀器儀表，通常采用光干涉原理測量薄膜厚度。
膜厚儀的作用
可應用于在線膜厚測量,測氧化物,SiNx,感光保護膜和半導體膜.也可以用來測量鍍在鋼,鋁,銅,陶瓷和塑料等上的粗糙膜層.薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉,干涉的發生與膜厚及折光系數等有關,因此可通過計算得到薄膜的厚度.光干涉法是一種無損,且快速的光學薄膜厚度測量技術,薄膜測量系統采用光干涉原理測量薄膜厚度。
膜厚儀的特點：
1,可以測量多層膜中每一層的厚度
2,三維的厚度型貌
3,遠程控制和在線測量
4,可做150mmor300mm的大范圍的掃描測試
5,豐富的材料庫:操作軟件的材料庫帶有大量材料的n和k數據,基本上的常用材料都包括在這個材料庫中.用戶也可以在材料庫中輸入沒有的材料.
6,軟件操作簡單,測速快:膜厚測量儀操作非常簡單,測量速度快:100ms-1s.
7,軟件帶有構建材料結構的拓展功能,可對單/多層薄膜數據進行擬合分析,可對薄膜材料進行預先模擬設計.
8,軟件帶有可升級的掃描功能,進行薄膜二維的測試,并將結果以2D或3D的形式顯示.軟件其他的升級功能還包括在線分析軟件,遠程控制模塊等
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